Este documento técnico identifica y analiza las necesidades computacionales necesarias para respaldar el desarrollo, la optimización y la implementación de la litografía ultravioleta extrema (EUV) de alta NA. Explora los desafíos asociados con la mayor complejidad de los sistemas de alta NA, propone soluciones potenciales y destaca la importancia de la litografía computacional para impulsar el éxito de las tecnologías avanzadas de litografía EUV.
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- Fuente: https://semiengineering.com/computational-lithography-solutions-to-enable-high-na-euv/
