IP Press Law Review (IPPLR) es una iniciativa de The IP Press para ampliar nuestros objetivos de difundir la conciencia sobre los temas relacionados con los derechos de propiedad intelectual y las leyes relacionadas. Su objetivo es promover el estudio y la investigación en el campo de las leyes de propiedad intelectual en forma de literatura académica. Este tema refleja algunas de las preocupaciones clave del régimen de propiedad intelectual tanto en el lenguaje nacional como internacional. Se prevé que incorpore algunas de las ideas más interesantes que ayuden a los lectores a comprender el discurso sobre los desarrollos contemporáneos en el campo de la Ley de Propiedad Intelectual. A lo largo del año, el consejo editorial ha revisado los documentos con múltiples rondas de edición para garantizar la calidad y el estándar. Este número presenta cuestiones intrigantes y desafíos relacionados con la ley de propiedad intelectual en el régimen nacional e internacional.
Visítanos: https://www.theippress.com/volume-1-issue-ii-june-2023/
S No. | Título de la publicación | Autor | Enlaces |
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1 | Patentes de genes y acceso a la atención médica en la India: el camino a seguir | Rahat Tara | Descargar |
2 | Patentes en Procedimientos Médicos: ¿Justificadas o No? | Radharaman Rajoria | Descargar |
3 | NCS Music y su impacto en los derechos de autor | Sriradha Rai Choudhuri | Descargar |
4 | Enfoques de la propiedad intelectual: una descripción pluralista | Abhay Raj Mishra, Rishabh Shukla | Descargar |
5 | Tatuajes: un punto de vista del régimen de derechos de autor de la India con especial referencia a Whitmill contra Warner Bros. Entertainment, Inc. |
Vaibhav Sharma | Descargar |
6 | Apropiación cultural en la industria de la moda: un estudio crítico sobre las cuestiones legales Rodeándolo |
winnie mateo | Descargar |
7 | Papel de los derechos de autor en las tecnologías de la comunicación digital y los derechos humanos | aranya Nath, Sasvati Chakrabarti |
Descargar |
8 | ¿Puede la protección de los derechos de autor servir como herramienta para regular el uso de las falsificaciones profundas?: un análisis comparativo entre EE. UU. e India | Paliwal de Shivangi | Descargar |
9 | Protección de Diseños: Fundamentos y Prohibición | Sai Akanksh Deekonda | Descargar |
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- Fuente: https://www.theippress.com/2023/07/04/the-ip-press-law-review-volume-1-issue-ii-june-2023/