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Etiqueta: 0.55 NA

Litografía de aplicación específica: amplificador de detección y patrones metálicos de controlador de línea de subpalabra en DRAM - Semiwiki

En un chip DRAM, el diseño de características fuera del conjunto de celdas puede ser tan desafiante como aquellas dentro del propio conjunto. Mientras...

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Litografía específica de la aplicación: Sub-0.0013 um2 Patrón de nodo de almacenamiento DRAM

La búsqueda de tamaños de celdas DRAM cada vez más pequeños sigue activa y en curso. Se proyecta que el tamaño de la celda DRAM se acerque a 0.0013 um2 para...

Predicción de la densidad de defectos estocásticos EUV

La litografía ultravioleta extrema (EUV) apunta a tonos de patrones por debajo de 50 nm, que está más allá de la resolución de un sistema de litografía de inmersión sin patrones múltiples. En...

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