El reciente logro de China de un nodo de fundición de clase 7 nm que utiliza únicamente litografía DUV plantea la cuestión de hasta qué punto se puede extender la litografía DUV...
La función de dispersión de puntos es la métrica básica que define la resolución de un sistema óptico. Un punto enfocado tendrá un diámetro definido...
Para una tecnología de litografía de vanguardia, la litografía EUV (ultravioleta extremo) todavía está plagada de algunos problemas fundamentales. Mientras que los defectos que ocurren estocásticamente probablemente han sido los...
La búsqueda de tamaños de celdas DRAM cada vez más pequeños sigue activa y en curso. Se proyecta que el tamaño de la celda DRAM se acerque a 0.0013 um2 para...
Los defectos estocásticos en la litografía EUV se han estudiado en los últimos años. Durante años, el ruido de Poisson de la baja densidad de fotones de...
La litografía ultravioleta extrema (EUV) apunta a tonos de patrones por debajo de 50 nm, que está más allá de la resolución de un sistema de litografía de inmersión sin patrones múltiples. En...
Cada vez hay más conciencia de que la litografía EUV es en realidad una técnica de imagen que depende en gran medida de la distribución de electrones secundarios en la resistencia...
